半導體、微電子、光伏等行業隨著產品工藝越來越先進、生產中使用的超純水也是產品合格率的重要組成部分。因此對純水水質要求也越來越高，比如單晶硅、多晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線柜架、集成電路、 液晶顯示器、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器、5G產品及各種元器件等生產工藝用純水基本是18.25MΩ﹒cm范圍的水質要求。
工藝流程
1. 傳統制水工藝：（預處理+陰陽混床）
CWS-->MMF-->ACF-->KCF-->凈水箱-->混床(復床)-->純水箱-->純水輸送泵-->精密過濾-->用水點
2.極減制水工藝：（預處理+一級反滲透+陰陽混床）
CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->一級RO反滲透系統-->混床(復床)-->純水箱-->純水輸送泵-->精密過濾-->用水點
3.簡配制水工藝：（預處理+一級反滲透+EDI電除鹽系統+拋光混床系統）
CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->一級RO反滲透系統-->EDI電除鹽系統-->純水箱->純水輸送泵-->拋光混床系統-->精密過濾-->用水點
4.正規制水工藝：（預處理+二級反滲透+EDI電除鹽系統+拋光混床）
CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->1-RO-->2-RO-->EDI-->純水箱->純水輸送泵-->拋光混床系統-->精密過濾-->用水點
5.高品質水制水工藝：（預處理+二級反滲透+EDI電除鹽系統+純水脫氧系統+拋光混床+生物膜過濾）
CWS---> MMF-->ACF-->KCF-->1-RO系統-->2-RO系統-->EDI-->MDG-->TOC-UV-->拋光混床系統-->生物膜過濾系統-->用水點
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